中国的光刻机存量有多少？外媒报道称，西大华盛顿智库发布的一项报告指出，中国大陆正在大量囤积浸没式深紫外（DUV）光刻机。该报告的作者包括前出口管制官员布朗和曾在白宫及西大商务部担任顾问的卡汉。由于受到多国制裁，大陆芯片制造商无法获取ASML的最先进极紫外（EUV）设备，因此不得不依赖仍可出口的浸没式DUV设备来生产高端半导体。这些设备大多数可用于生产先进的人工智能芯片。
报告中提到，ASML在DUV市场的份额接近99%。除此之外，日本的佳能也能生产这类设备。根据估计，大陆的晶圆厂拥有约343台浸没式DUV光刻机，包括270台ASML的NXT:1980i等类型。这种NXT:1980i光刻机自2015年上市以来，已用于10纳米工艺生产，并能经过优化后制造7纳米级芯片。外媒分析指出，该机型每年可支撑大陆晶圆厂生产超过10万颗AI芯片。
报告还提到，自2010年代末以来，大陆开始购买NXT:1980i光刻机，特别是在2023年荷兰政府宣布对更先进设备出口限制后，加速了采购计划。预计在2024年和2025年，大陆晶圆厂将分别进口约90台和89台该型号设备，相关支出已超过130亿美元。 千亿球友会
报告预计，到2026年第一季度，大陆晶圆厂将累计有396台浸没式DUV设备，统计误差范围在361至444台之间。报告建议西方国家应全面禁止向大陆出口浸没式DUV设备，并收紧配件和维修服务的管控措施。若无法达成禁令，可运用外国直接产品规则等工具限制相关设备的出口。
业内已针对无法获得浸没式DUV光刻机的状况进行多次推演，并制定了相应的应对策略。尽管已有所准备，但设备的软件升级和零部件的供应仍会影响现有芯片的生产连续性。此外，与荷兰的协议若能够再次签署或延期，将为此问题提供缓冲时间。情况仍值得关注。
